Az idén második alkalommal megtartott rendezvény célja feltárni a hazai felfedező és célzott kutatási eredmények koreai üzleti hasznosítási lehetőségeit a gyógyszeripar, az autóipar, a vegyipar, a nukleáris energetika és az elektronika területén.
Gvan Pjo Nam, Dél-Korea budapesti nagykövete szerint a folyamatosan bővülő, kölcsönösen előnyös együttműködéshez jó alapot jelentenek a felfedező kutatások terén elért élenjáró magyar eredmények.
„A Koreai Köztársaság kormánya a közelmúltban Magyarországot stratégiai fontosságú partnerei közé sorolta a tudomány és technológia területén, ez újabb ösztönzést jelenthet kapcsolatainknak” – fogalmazott köszöntőjében.
Pálinkás József, a Magyar Tudományos Akadémia elnöke arról az egyedülálló kezdeményezésről beszélt, amelynek köszönhetően az MTA és a Koreai Alapkutatási Tanács (Kotra) közötti együttműködés keretében 2010 óta öt közös, a legkorszerűbb berendezésekkel felszerelt laboratóriumot létesítettek az MTA intézményeiben, ahol a két ország tudósai nemzetközileg is versenyképes témákban folytatnak kutatásokat. Szó van további két közös laboratórium létesítéséről is.
Az MTA TTK Műszaki Fizikai és Anyagtudományi Intézet (MFA) által szervezett technológiai nap kapcsán Pálinkás József kiemelte, hogy a felfedező és a célzott kutatásokat nem lehet egymástól elválasztani.
„Megbízható partnerekre van szükségünk ahhoz, hogy a felfedező kutatások eredményei konkrét projektekben, termékekben ölthessenek testet. A technológiailag fejlett dél-koreai cégek keresik a megvalósítható ötleteket, segítségükkel kutatási eredményeink termékké válhatnak és kijuthatnak a globális piacra” – fogalmazta meg a rendezvény céljait az MTA elnöke.
Bársony István akadémikus, az MTA TTK MFA igazgatója kiemelte, hogy a közös laboratóriumok egyike 2011 óta intézetében működik. Bíró László Péter akadémikus irányításával a jövő potenciális félvezetőanyaga, a grafén megmunkálhatóságát vizsgálják magyar és koreai kutatók.
„A szilíciumalapú félvezetők kezdik elérni a fizikai méretcsökkentés határait. Különleges elektronszerkezete miatt a grafén a legesélyesebb arra, hogy integrált áramkörök gyártásában kiváltsa a jelenleg egyeduralkodó szilíciumot. Az MFA kutatócsoportja világelső a grafénszabászatban, 2,5 nanométer széles csíkokat tud készíteni egyedi módszerrel, a gyártásra alkalmas technológiát reményeink szerint pedig a koreaiak részvételével sikerül kifejleszteni” – mondta az akadémikus.
